CVD设备公司

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CVD设备公司提供精密可靠的化学气相沉积和热处理设备，用于碳化硅、储能、航空航天和国防等应用。

最近更新 2026年9月2日

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概览

CVD设备公司是化学气相沉积和热处理设备的领先供应商，包括物理气相传输、气体和化学品输送控制系统以及其他设备和工艺解决方案。公司服务于航空航天与国防、高功率电子和电动汽车电池材料等市场。公司成立于1982年，总部位于纽约州中央艾斯利普。公司在纳斯达克上市，股票代码为CVV。

CVD设备公司成立于1982年。自成立以来，公司一直专注于为半导体、太阳能、替代能源、MEMS、LED、纳米技术、研发和功能涂层加工市场设计和制造下一代工艺解决方案。公司在CVD和热处理设备设计与制造方面拥有超过40年的专业知识。