ギガフォトン株式会社
企业品牌
未认领日本半导体光刻用准分子激光与EUV光源制造商，全球仅有的两家能够提供此类光源的企业之一。
最近更新 2026年9月26日
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概览
ギガフォトン株式会社（Gigaphoton Inc.）是一家日本半导体光刻光源制造商，总部位于栃木县小山市。公司于2000年8月1日成立，作为支撑21世纪半导体产业的前沿专业企业，是株式会社小松製作所（Komatsu）的全资子公司。其业务涵盖半导体光刻用及其他用途准分子激光器、以及极紫外（EUV）光源的开发、制造、销售与服务。 Gigaphoton的渊源可追溯至1983年，当时小松的万田研究所内一支小型研究团队开始了最终促成公司创立的工作。自2000年以来，公司持续将先进的半导体光刻用准分子激光器产品化，已向全球出货近2000台半导体曝光用准分子激光器。公司表示，自己是全球仅有的两家能够生产制造半导体芯片所需特殊光源的企业之一，其产品被日本及亚洲几乎所有半导体制造商采用，在欧美市场也持续快速增长。 Gigaphoton的核心技术是激光技术与光计测技术。其准分子激光器在紫外波段能够以极高效率振荡，且设备可做得相对小型，因此适合作为需要高分辨率的最尖端半导体曝光装置的光源。除光刻外，准分子激光还应用于工业加工以及LASIK等视力矫正手术等医疗领域。公司还积极推进作为下一代光刻光源的EUV光源的开发与量产，并已开始评估面向先进材料的脉冲激光成膜用准分子激光器。 Gigaphoton以质量与可靠性、客户课题解决以及可持续发展为定位。其社是承诺提供No.1的技术与质量产品，始终作为行业领导者贡献社会，并在公司内外建立牢固的信赖关系。其可持续发展方针与小松共享，旨在开创人、社会与地球共同繁荣的未来。公司在2020年创立20周年之际创下历史最高销售额，并表示正迎来新的成长期，为应对半导体需求大幅增长而加快推进设备扩充。截至2026年3月31日，公司合并员工数为1,426名。管理层包括代表董事社长兼CEO榎波龍雄、COO仏師田了，以及负责生产、事业战略、财务、技术研发等的董事与执行役员。Gigaphoton在日本国内设有小山、东北（北上市）、四日市、广岛、九州（熊本）等服务网点，海外销售与服务实体包括位于美国俄勒冈州比弗顿的Gigaphoton USA Inc.、位于韩国华城的Gigaphoton Korea Inc.以及GIGAPHOTON (CHINA) INC.。
沿革
Gigaphoton的历史始于1983年，当时隶属于小松万田研究所的一支小型研究团队开始了最终促成公司创立的工作。该团队在激光与光学技术方面的努力，为日后Gigaphoton的建立奠定了技术基础。 Gigaphoton株式会社于2000年8月1日正式成立，旨在支撑21世纪的半导体产业。公司自成立起便专注于光刻光源领域，推动半导体光刻设备用先进准分子激光器的产品化。公司宣称的使命是运用其独有的激光技术与光计测技术，为半导体行业提供高性能光刻光源，从而为客户作出贡献。 在此后的二十年间，Gigaphoton不断将新一代准分子激光器推向市场，已向全球出货近2000台半导体曝光用准分子激光器。其产品被日本及亚洲几乎所有半导体制造商采用，在欧美市场也快速增长。随着行业向下一代光刻发展，Gigaphoton投入极紫外（EUV）光源的开发与量产，将自身定位为有望在尖端图形化中取代准分子激光器的光源供应商。 2020年，即公司创立20周年之际，Gigaphoton创下历史最高销售额。公司表示已进入新的成长期，正快速扩充设备以应对半导体需求的大幅增长。公司还持续将技术基础拓展至光刻以外领域，包括面向其他领域的准分子激光器以及软件开发，并已开始评估面向先进材料的脉冲激光成膜用准分子激光器。截至2026年3月31日，公司合并员工数为1,426名。自成立以来，Gigaphoton一直是株式会社小松製作所的全资子公司，其可持续发展方针与小松共享。
- 2026
截至2026年3月31日，合并员工数为1,426名；公司表示进入新的成长期并快速扩充设备。
- 2020
Gigaphoton迎来创立20周年，并创下历史最高销售额。
- 2000
Gigaphoton株式会社于8月1日成立，专注于半导体光刻光源。
- 1983
小松万田研究所内的一支小型研究团队开始最终促成Gigaphoton创立的工作。
产品与定位
以质量与可靠性为核心的专业前沿光刻光源供应商，致力于在技术与质量上做到No.1，并在快速发展的半导体行业中解决客户课题。
半导体光刻用准分子激光器
用于最尖端半导体曝光装置的紫外光源，具有高效率且设备相对小型的特長。
EUV光源
正在开发与量产的下一代光刻光源。
L300KZ准分子激光器
面向先进材料脉冲激光成膜的准分子激光器，2026年开始评估。
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