迪斯凯姆

DisChem, Inc.是一家美国特种化学品公司，总部位于宾夕法尼亚州里奇韦，以“先进光刻化学”为定位。其产品线面向微纳器件制造，覆盖从全息与光学介质生产到先进微影光刻和电子束光刻（EBL）等领域。公司表示其使命是为先进光刻制造提供提高良率、降低成本与工艺废弃物的化学解决方案。 DisChem的产品目录围绕少量品牌化特种化学品展开。H-SIQ（亦写作H-SiQ或HSQ）是一种负性氢倍半硅氧烷电子束光刻胶，由干法二氧化硅树脂在半导体级MIBK载体溶剂中制成，面向直写薄膜EBL应用，以间距分辨率、灵敏度和抗蚀刻性为特点。DisCharge是一种用于电子束光刻的抗静电剂，可防止电荷在电绝缘衬底上积聚。SurPass是一种水性试剂，用于促进附着力并改善光子与电子束光刻中多种衬底材料的涂覆质量。DisClean是一种阳离子表面活性剂，用于去除光学电铸件和衬底上的水渍、氧化产物、有机残留物和静电污染物。E-Form是一种电子级氨基磺酸镍低应力电铸浓缩液，专为电子制造设计并生产。StamperPrep等产品共同构成其产品组合。 公司服务于半导体、光子学、光学介质及相关高科技制造领域的客户，并欢迎就新产品和价格优惠的大宗化学品进行咨询。其运营地点位于宾夕法尼亚州里奇韦市布特杰克路17295号A套房，联系渠道包括美国电话号码和通用信息邮箱。DisChem是一家私营公司；现有证据未显示其母公司、所有权集团或股票上市信息。其公开传播内容侧重于技术应用说明和博客文章，主题包括HSQ光刻胶性能、EBL中的电荷管理以及用于高精度工业创新的镍电铸等。

DisChem, Inc.是一家位于宾夕法尼亚州里奇韦的美国私营特种化学品公司。关于其企业历史的公开信息有限；现有证据将其识别为美国里奇韦的一家公司，其官网则将其定位为面向微纳器件制造的“先进光刻化学”供应商。 公司围绕一组聚焦的品牌化特种化学品构建其身份，而非广泛的大宗商品目录。其产品页面介绍了H-SIQ（亦写作H-SiQ或HSQ），一种由干法二氧化硅树脂在半导体级MIBK载体溶剂中制成的负性氢倍半硅氧烷电子束光刻胶，用于直写薄膜电子束光刻，以间距分辨率、灵敏度和抗蚀刻性著称。DisCharge被描述为一种用于电子束光刻的抗静电剂，可防止电荷在电绝缘衬底上积聚。SurPass是一种水性附着力促进剂和涂覆质量改良剂，适用于光子与电子束光刻衬底。DisClean是一种阳离子表面活性清洗剂，用于光学电铸件和衬底，去除水渍、氧化产物、有机残留物和静电污染物。E-Form是一种电子级氨基磺酸镍低应力电铸浓缩液，专为电子制造设计并生产。StamperPrep也列于其产品之中。 DisChem将这些产品推向从全息与光学介质到先进微影光刻和电子束制造的应用领域，强调提高良率并降低成本和工艺废弃物。公司运营一个博客，发布技术文章，主题包括高分辨率EBL用HSQ光刻胶性能、电子束光刻中的电荷管理与束偏转，以及用于高精度工业创新的镍电铸等。其联系方式显示运营地点为美国宾夕法尼亚州里奇韦市布特杰克路17295号A套房，邮政信箱267号，邮编15853，并提供美国电话号码和信息邮箱。网站页脚载有DisChem, Inc. 2025年版权声明。现有证据未确定其成立年份、创始人、母公司、所有权集团或股票上市信息。

专注于先进光刻与微纳器件制造的特种化学品供应商，承诺提高良率并降低成本和工艺废弃物。

• H-SIQ（H-SiQ / HSQ）

  由干法二氧化硅树脂（H-SiOx）在半导体级MIBK载体溶剂中制成的负性氢倍半硅氧烷电子束光刻胶，用于电子束光刻（EBL）；以优异的间距分辨率、灵敏度和抗蚀刻性著称，适用于直写薄膜EBL应用。

• DisCharge

  用于电子束光刻的抗静电剂，可防止电荷在电绝缘衬底上积聚。

• SurPass

  水性试剂，旨在促进附着力并改善光子与电子束光刻中多种衬底材料的整体涂覆质量。

• DisClean

  阳离子表面活性剂，用于去除光学电铸件和衬底上的水渍、氧化产物、有机残留物和静电污染物。

• E-Form

  电子级氨基磺酸镍低应力电铸浓缩液，专为电子制造设计并生产。

• StamperPrep

  列于DisChem官网产品列表中。

1. 1Microlithography Surpass Chemicals Co INC in the USA - DisChemdischeminc.com
2. 2About Us - dischemincdischeminc.com
3. 3H-SIQ - dischemincdischeminc.com
4. 4Electroforming - dischemincdischeminc.com
5. 5DisChem (United States) - Wikidatawikidata.org